Responsabile del laboratorio: Prof. Neri Fortunato (P.O.)
Collocazione: Edificio A - 1° piano - blocco A
Sigla Locale: A2-a1_2
Il laboratorio è dotato di attrezzature per microanalisi chimica di superficie in UHV (Ultra High Vacuum). In particolare, è possibile svolgere le seguenti attivita':
a) Misure di spettroscopia fotoelettronica (XPS) ad alta risoluzione di superfici solide, polveri e di strutture a film sottili multistrato. Il sistema è equipaggiato con sorgente monocromatica di raggi X, rivelatore multicanale ed analizzatore di energia emisferico a 180 gradi. Il sistema è ad alta efficienza e completamente automatizzato con pre-definizione dei punti e delle condizioni di misura e delle analisi dati.
b) Mappe composizionali (x-y) con risoluzione fino a 10 micron ed identificazione degli stati di ossidazione degli elementi.
c) Analisi composizionale in profondità (z-"depth-profiling") mediante "sputtering" con ioni Argon.
d) Compensazione della carica superficiale mediante cannone a elettroni di bassa energia.
- Barreca Francesco (P.T.)
- Corsaro Carmelo (P.A.)
- Fazio Enza (P.O.)
Sistema di spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS K-Alpha)
